Arkema: plateforme de recherche collaborative avec le CEA.
Actualité publiée le 11/05/12 16:43
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(CercleFinance.com) - Arkema et le CEA-Leti annoncent la création d'une plateforme dédiée à la lithographie basée sur des polymères nano-structurés.
Au sein du CEA, l'Institut Leti (Laboratoire d'Électronique de Technologie de l'Information) travaille en étroite collaboration avec l'industrie pour accroître leur compétitivité par le développement et le transfert de technologies innovantes.
Dans le cadre de leur laboratoire commun, Arkema et le CEA-Leti, en association avec les équipes du Professeur Hadziioannou du LCPO, sont parvenus à obtenir un pitch de 20 nanomètres (nm) et à diminuer le diamètre des contacts à 7 nm grâce à des polymères nano-structurés, démontrant ainsi la compatibilité de cette technologie pour les noeuds technologiques allant du 20 nm au sub 10 nm.
Pitch, ou 'pas' en français, signifie la distance séparant deux lignes d'interconnexion.
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Au sein du CEA, l'Institut Leti (Laboratoire d'Électronique de Technologie de l'Information) travaille en étroite collaboration avec l'industrie pour accroître leur compétitivité par le développement et le transfert de technologies innovantes.
Dans le cadre de leur laboratoire commun, Arkema et le CEA-Leti, en association avec les équipes du Professeur Hadziioannou du LCPO, sont parvenus à obtenir un pitch de 20 nanomètres (nm) et à diminuer le diamètre des contacts à 7 nm grâce à des polymères nano-structurés, démontrant ainsi la compatibilité de cette technologie pour les noeuds technologiques allant du 20 nm au sub 10 nm.
Pitch, ou 'pas' en français, signifie la distance séparant deux lignes d'interconnexion.
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