(Zonebourse.com) - IBM annonce un accord avec SCREEN Semiconductor Solutions pour développer des procédés de nettoyage destinés à la prochaine génération de lithographie EUV (Extreme Ultraviolet). Cette collaboration s'appuie sur plus de 10 ans de partenariat dans l'innovation de procédés de nettoyage utilisés pour les technologies actuelles de dispositifs nanosheets.
Le développement se concentrera sur la technologie High NA (High Numerical Aperture) EUV, essentielle au-delà du noeud 2nm. Dans ces procédés avancés, des particules infimes ou des micro-rayures peuvent compromettre la performance, rendant le nettoyage crucial.
Mukesh Khare, directeur général des semi-conducteurs IBM, souligne que 'la technologie High NA EUV est critique pour concevoir des semi-conducteurs plus petits et puissants dans l'ère de l'IA'. Akihiko Okamoto, président de SCREEN, met en avant l'objectif commun de fournir des solutions robustes adaptées aux exigences du sous-2nm.
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